静电是一种常见的、自然发生的现象，但在研讨实验室中，包含在剖析称量进程中，它能够发生各种有害的影响。静电会对称量进程自身或成果发生晦气影响，它们不只会导致肯定分量不准确，还会导致漂移和重复性差，然后影响数据质量，因而就需要消耗时刻的资料挑选或处理程序来应对这些问题。

  带有集成静电中和技能的剖析天平能处理静电烦恼，并保证各种剖析称重使用的准确性，是一种紧凑且有用的处理方案。赛多利斯的Cubis II剖析天平和半微量天平集成了电荷中和技能，以完成准确的称量功能。

  电子逸出功是指一个电子脱离金属外表所需的能量。两个物体之间的冲突会引发离子构成，因而电子逸出功较低的物质很简单给电子逸出功较高的物质供给电子。在称重进程中，样品内部或样品与容器或皮重容器之间有冲突，会发生静电。

  待称重物质与天平固定部位相互作用，因该部位与称重盘（包含通风罩或底板）没有导电衔接，所以导致物质外表电荷积累，从而发生静电力。这些静电力可能会发生虚伪肯定分量（即与实践分量明显违背），并影响称重精度。当电荷经过称量盘散失时，静电力的改变会导致漂移，由此发生不一致的成果并下降重复性。

  假如称重容器和环境都带负电，那么所发生的排斥力会将施加在天平上，由此发生比实践分量更重的虚伪肯定分量。

  假如称重容器和环境的电荷相反，所发生的吸引力将发生比实践分量更轻的虚伪肯定分量。

  赛多利斯 Cubis II 剖析天平采用了集成的电荷中和技能，可有用去除样品和容器中的电荷，以此来完成更准确的剖析称重。

  Q-stat 电离器被直接集成到防风罩中，只需按下按钮即可在几秒钟内消除电荷，提高了Cubis II 剖析天平的称重功率和准确性。天平后部有四个离子风机喷嘴，极性相反，可在称量盘区域发生聚集效应。Q-stat 能够在不搅扰气流的情况下中和样品和容器上的电荷。防风罩上有一层通明的导电涂层，能够有用的防备天平周围区域发生静电。

  滤盘的直径在 50 mm 至 150 mm 之间，可增加称量盘的屏蔽效应。